分光計測データから、リアルタイムで発光強度を分析、グラフ表示します。 全体の発光強度から、連続スペクトルによるバックグラウンドを分析し、 そこからターゲットとなる分子の輝線スペクトルの発光強度を割り出します。 また、２種類の分子の発光強度の比率をリアルタイム分析することにより、 プラズマＣＶＤ炉などの気相状態のコントロールに役立ちます。

監修：大阪大学　岡本博明教授／松田彰久特任教授

プラズマ発光には黒体放射、熱放射と言われる連続スペクトルによるバックグラウンドが含まれています。 バックグラウンドはソフトウェアによる自動解析が難しく、従来はプロセス後に人がバックグラウンドを判断していました。 これを自動化することで、リアルタイムのバックグラウンド除去を可能にしました。

クレブ製品に共通する「高機能グラフ」がデータ確認に大きな威力を発揮します。 また、ターゲット分子のタイムライングラフと波長グラフが連動しますので、 変動があった時に何が起こっているのかを把握しやすくなっています。

※はオプションです。

展示会でデモンストレーションをご覧いただけます。是非ご来場ください。
出展情報はページ下部にてご確認いただけます。